アーカイブ ニュース

2010年3月8日

セイコーインスツル、半導体工場に温室効果ガス排出抑制設備 排出量90%削減


 セイコーインスツルは、主に半導体を製造している千葉県松戸市の高塚事業所に、代替フロンなどの温室効果ガスの排出を抑制する設備を導入し、4月からCO2換算排出量を90%、年間で2万t削減する。同事業所は同社で唯一、生産工程で温室効果ガスを使っている。

 半導体製造では製造プロセスとドライクリーニング用に、代替フロンガスの六フッ化硫黄、ハイドロフルオロカーボン類、パーフルオロカーボン類が使われ、大気中に排出されている。これらのガスは、強い温室効果を持つことから京都議定書の削減対象になっている。

 同事業所では、温室効果ガスのうち、温暖化への影響を持続時間も考慮してCO2との比で表す「地球温暖化係数」が高い六フッ化硫黄などを分解処理することにした。設備には電熱式を採用し、エネルギー起源のCO2を低減。抑制装置の台数を抑えられるシステムにするとともに、抑制工程で使う窒素ガスを再利用できるようにした。

 排出抑制設備の導入は新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の2009年度地域地球温暖化防止支援事業に採択。同社は今回の取り組みを機に、グループとしてさらに環境保全の活動を進めていく。(日経BP環境経営フォーラム

復興日本

聴くエコマム

High Ecology Low Carbon 創エネ住宅の時代へ

東京国際環境会議2011

グリーンテクノロジー&マネジメントシンポジウム2010

ecomom 国際森林年